Verbesserte Halbleiterfertigung mit Oberflächenanalytik

Präzisionslösungen für Waferreinheit, Haftung von Epoxidharzen und effektives Drahtbonden

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Gelangen Sie mit Oberflächenanalytik zum Erfolg

 

Mit unserer umfassenden Erfahrung in der Grenzflächenanalytik arbeiten wir von KRÜSS mit Chipherstellern und Forschungseinrichtungen zusammen, um Innovation und Effizienz über den gesamten Entwicklungs- und Produktionszyklus hinweg voranzutreiben.

Unser umfangreiches Portfolio an Messinstrumenten und Software ermöglicht flexible Konfigurationen für komplexe Messaufgaben. Darüber hinaus sorgen standardisierte Teststrategien für optimale Benetzbarkeit, Haftung und Sauberkeit in Halbleiterprozessen. Entdecken Sie, wie unsere hochwertigen Lösungen jeden Schritt von der Wafervorbereitung und Reinheitsbewertung bis hin zu Chip Packaging, Drahtbonden und Haftungsoptimierung unterstützen.

Siliziumwafer für die Halbleiterfertigung

Planarisierung

Die chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) nutzt Tenside, um eine optimal gemischte Aufschlämmung mit effektiven Benetzungseigenschaften zu erzeugen. Tensiometer von KRÜSS messen die Oberflächenspannung, um die Konsistenz der Aufschlämmung sicherzustellen, während Instrumente zur Schaumanalyse unerwünschte Schaumbildung bewerten und kontrollieren, was für die Prozessstabilität entscheidend ist.

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Ingenieur im Reinraumanzug hält einen Siliziumwafer

Waferreinheit

Kontaminationsfreie Waferoberflächen sind für nachfolgende Verarbeitungsschritte von grundlegender Bedeutung. Kontaktwinkelmessungen reagieren sehr empfindlich auf Verunreinigungen oder Reinigerrückstände und eignen sich daher ideal zur Optimierung und Qualitätskontrolle verschiedener Frontend-Reinigungsschritte. Unsere Kontaktwinkelinstrumente liefern präzise Ergebnisse, ohne die Integrität der Wafer zu beeinträchtigen.

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Siliziumwafer und Mikroschaltungen mit robotergestützter Automatisierung

Automatisierte Chargenprüfung

Für serienmäßige Qualitätskontrollen der Sauberkeit oder Benetzbarkeit werden mobile Kontaktwinkellösungen mit Robotersystemen kombinieren. Die Software kommuniziert über APIs oder das OPC UA-Protokoll mit den umgebenden Systemen, um den Kontaktwinkel-Messschritt in das Ensemble der Prüfschritte einzureihen.

Erleben Sie in unserer Kundenstory mit dem Fraunhofer CSP-Institut, wie automatisierte Batch-Tests mit unseren mobilen Messinstrumente funktionieren.

Zur Kundenstory

The Stood-up Drop in a nutshell

Ultrafast

Measure and read the result in seconds

User-independent

Parameters and measurement procedure are predefined

Non-destructive and hazard-free

Only drops of pure water get onto the sample

Proven
Tested with many polymers and metals, also plasma treated with different parameters
Detailaufnahme eines Chips mit Verbindungsdrähten

Drahtbonden

Für robuste elektrische Verbindungen beim Drahtbonden müssen Bondpads frei von Verunreinigungen und Oxidation sein. Mikro-Kontaktwinkelmessungen liefern wichtige Erkenntnisse über die Oberflächenbeschaffenheit. Die Spezialoptik ermöglicht genaue Bewertungen dosierter Picoliter-Tropfen und gewährleistet so eine optimale Oberflächenvorbereitung für zuverlässige Drahtverbindungen.

Mehr Informationen
Glob-Top-Verkapselungsverfahren zum Schutz von Mikroelektronik

Glob-Top-Verkapselung

Der Schutz empfindlicher Komponenten durch Glob-Top-Verkapselung erfordert Ummantelungen mit starker Haftung. Die Grenzflächenspannung gegenüber dem Chip und der Leiterplatte muss möglichst gering sein, um Langzeitstabilität zu gewährleisten. Unsere Tropfenformanalysatoren erleichtern die Bewertung dieser Parameter und tragen so zur langfristigen Stabilität und Zuverlässigkeit von verkapselten Halbleiterbauelementen bei.

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Unterfüllungsprozess für die Zuverlässigkeit und Festigkeit der Chips

Unterfüllungs-Prozess

Eine effektive Unterfüllung mit Epoxidharz schützt Chips vor mechanischer Beanspruchung und Umwelteinflüssen. Eine optimale Benetzung gewährleistet eine vollständige Ausbreitung und verhindert Lufteinschlüsse. Unsere Drop Shape Analyzer unterstützen Packaging-Ingenieure bei der Bewertung der Benetzbarkeit und erlauben es, die Ausbreitgeschwindigkeit zu berechnen, um den Unterfüllungsprozess effizienter zu gestalten.

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Unsere Messlösungen bringen Ihre Halbleiterproduktion voran

 

Entdecken Sie unser umfassendes Angebot an Präzisionsinstrumenten, die jede Phase Ihres Halbleiterfertigungsprozesses optimieren. Unser Portfolio umfasst hochwertige Kontaktwinkelgeräte, Tensiometer und Instrumente zur Schaumanalyse, die für ihre Präzision, Genauigkeit und benutzerfreundliche Bedienung bekannt sind. Sie werden in unserer weltweiten Zentrale in Deutschland entwickelt und hergestellt und decken eine Vielzahl von Anwendungen ab.

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DSA100W

Automatische Analyse der Benetzbarkeit und Adhäsion von Wafern und anderen runden Proben

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Tensíío

Das Tensiometer der neuen Generation für flüssige und feste Oberflächen

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DFA100

Das universelle Instrument für alle Aspekte flüssiger Schäume

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Ayríís

Qualitätskontrolle für Oberflächen war nie so einfach und zuverlässig

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MSA One-Click SFE

Analyse der Benetzbarkeit in einer Sekunde mit einem Klick

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DSA30M

Präzise Analysen der Benetzbarkeit mikroskopisch kleiner Oberflächen

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DSA100E

Die automatische Premium-Lösung für Analysen der Benetzung und Adhäsion von Festkörpern und Flüssigkeiten

Tauchen Sie tiefer ein mit unseren Experten

Wollen Sie mehr über unsere Lösungen zur Optimierung der Frontend- und Backend-Schritte in der Chip-Produktion erfahren? Zögern Sie nicht, sich mit unseren Experten für Oberflächenanalytik in Verbindung zu setzen, um Ihre Aufgabe oder Ihren Lösungsbedarf Problem zu besprechen.